|
|
4
В России строят литографическую установку для производства 7-нм чиповСпециалисты Института прикладной физики Российской академии наук (ИПФ РАН) объявили о разработке первой отечественной установки литографии для производства микроэлектроники по современным технологическим процессам. Пока что проект находится на стадии «прототип прототипа», но уже удалось получить отдельные изображения на подложках с разрешением до предельных 7 нм, что существенно превосходит решения, которые сейчас производятся в России в промышленных масштабах.
По словам авторов проекта, на данный момент в РФ массово могут производить электронику по 65-нанометровому техпроцессу, но в основном это и вовсе 90 нм и более. Что же касается новой установки, то появление готового к применению продукта ожидается в течение 6 лет. Согласно плану исследователей, в 2024 году должна быть готова «альфа-машина». В данном виде установка станет рабочим оборудованием и будет рассчитана на проведение полного цикла операций. На этом этапе упор будет сделан не на высокую скорость производства или максимальное разрешение, а на полноценную работу всех систем. Второй этап намечен на 2026-й с выпуском «бета-машины». На этом этапе будет повышена точность и скорость производства. Параллельно с этим необходимо будет интегрировать установку в реальные технологические процессы и отладить, обновив соответствующее оборудование для других этапов производства. Третий этап, намеченный на 2026-2028 годы, предусматривает установку более мощного источника излучения с улучшением других показателей и возможность производить 7-нм решения. Отмечается, что достижение такого результата с нуля за шесть лет — большой шаг вперёд. Большинство микроэлектронных компонентов, используемых сейчас в автомобильной, космической и промышленной сферах, находится в пределах технологических норм 65–360 нм. Источник: 4PDA.
 Loading ...Комментарии (4)Вы должны быть зарегистрированы для написания комментариев. |
К тому времени 3нм уже будут не актуальны. А 7нм про них никто даже не вспомнит. Но в любом случае БРАВО. Только это надо было делать лет 20-25 назад.
ахах, это серьёзно? производство на сперва купленных у Китая или Малайзии станках без знания технологий... а как же импортозамещение... коррупция все равно все сожрет...?
В комментах, я гляжу, одни инженеры - микроэлектронщики.?
Главное, чтобы был образец, на котором можно свои разработки делать, можно другим методом работать, чтобы чипы были построены по 0,025 нанометровому техпроцессу из других элементов. Давно пора своей дорогой развития идти! Всем диванным инженерам; вместо критики, предложите, свои рабочие модели процессов, а не занимайтесь пустой болтовней как бабы на базаре!